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CF4等离子体中每增加（）的氧气，氟浓度会增加一个数量级，对硅的刻蚀速率增加一个数量级
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CF4等离子体中每增加（）的氧气，氟浓度会增加一个数量级，对硅的刻蚀速率增加一个数量级
A、10%
B、12%
C、14%
D、16%
正确答案：12%
Tag：
数量级
等离子体
速率
时间：2024-05-06 11:47:12
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