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在集成电路制造过程中，刻蚀通常是在（）之后进行的，刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。
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在集成电路制造过程中，刻蚀通常是在（）之后进行的，刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。
A、抛光
B、显影
C、光刻
D、涂胶
正确答案：显影
Tag：
光刻
涂胶
集成电路
时间：2024-05-24 20:23:20
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患者男，67岁。确诊为原发性支气管肺癌，为行手术治疗收入院A3/A4题型]护士对患者进行评估时，发现与患肺癌最有关系的因素是（）
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