对于“热氧化工艺中掺入Cl元素”说法正确的是()
A、Cl2可以中和掉界面处和氧化物表面处的电荷堆积
B、由于氧化层的阻挡,Cl离子很难扩散到正电荷层,因此需要增加反应炉的压力
C、虽然Cl2可以中和多余的电荷,但是由于Cl2冲淡了O2,使氧化速率降低
D、HCl(气)和Cl2都是可以被用来引入Cl元素的反应气体
正确答案:HCl(气)和Cl2都是可以被用来引入Cl元素的反应气体
相关答案
热门答案