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在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()
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在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()
A、淀积
B、刻蚀
C、氧化
D、光刻
正确答案:光刻
Tag:
光刻
集成电路
工艺技术
时间:2024-05-24 20:23:22
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患者男,67岁。确诊为原发性支气管肺癌,为行手术治疗收入院A3/A4题型]护士采集患者的痰标本作细胞学检查,目的是为了确定痰中有无
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集成电路光学光刻的关键设备()
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在集成电路制造过程中,刻蚀通常是在()之后进行的,刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。
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患者男,67岁。确诊为原发性支气管肺癌,为行手术治疗收入院A3/A4题型]护士进行术前护理措施中,不适宜的内容是()
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男性,67岁,咳嗽、痰中带血丝2个月,发热10天。胸片显示右肺上叶片状阴影,呈肺炎样征象A3/A4题型]患者一个月后出现右侧面部无汗、瞳孔缩小、上眼睑下垂及眼球内陷。复查胸片显示右胸顶部致密块影。诊断最可能是()
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男性,67岁,咳嗽、痰中带血丝2个月,发热10天。胸片显示右肺上叶片状阴影,呈肺炎样征象A3/A4题型]胸片显示右肺上叶片状阴影,呈肺炎样征象。为明确诊断,应首选
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男性,67岁,咳嗽、痰中带血丝2个月,发热10天。胸片显示右肺上叶片状阴影,呈肺炎样征象A3/A4题型]胸片显示右肺上叶片状阴影,呈肺炎样征象。适宜的治疗方法是()
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