关于氧化速率下面哪种描述是正确的:


关于氧化速率下面哪种描述是正确的:

A.生长非常薄(<十几nm)的栅氧化层时,氧化速率服从线性规律

B.温度升高氧化速率迅速增加

C.(111)硅比(100)硅氧化得快

D.有杂质(如Na、P等)存在,氧化速率降低

E.生长的氧化层较薄时,氧化速率服从线性规律

F.生长的氧化层较厚时,氧化速率服从线性线规律

正确答案:温度升高氧化速率迅速增加;(111)硅比(100)硅氧化得快;生长的氧化层较薄时,氧化速率服从线性规律


Tag:微电子工艺 速率 线性 时间:2022-03-02 17:03:00