下列有关曝光的描述正确的是:


下列有关曝光的描述正确的是:

A.确定图案的精确形状和尺寸;

B.步进曝光机一次就可以完成曝光;

C.使受光照射区域的光刻胶膜发生化学反应形成潜影;

D.需要进行准确对版后再曝光,才能保证各次光刻的套准精度。

正确答案:确定图案的精确形状和尺寸;;使受光照射区域的光刻胶膜发生化学反应形成潜影;;需要进行准确对版后再曝光,才能保证各次光刻的套准精度。


Tag:微电子工艺 光刻 胶膜 时间:2022-03-02 17:03:12